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天得一廢氣治理方案,助力泛半導(dǎo)體行業(yè)可持續(xù)發(fā)展

發(fā)布日期:2024-04-19 來源:天得一 閱讀量:1300

在日新月異的科技浪潮中,泛半導(dǎo)體行業(yè)以其廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域和關(guān)鍵性的技術(shù)支撐,成為引領(lǐng)現(xiàn)代工業(yè)發(fā)展的重要力量。其中,集成電路、平板顯示、LED、太陽能電池、分立器件以及半導(dǎo)體設(shè)備材料產(chǎn)業(yè)等細(xì)分領(lǐng)域,共同構(gòu)成了這個(gè)充滿活力的行業(yè)生態(tài)。

天得一廢氣治理方案,助力泛半導(dǎo)體行業(yè)可持續(xù)發(fā)展

在這些領(lǐng)域中,半導(dǎo)體的制作流程尤為關(guān)鍵,其中沉積步驟更是不可或缺的一環(huán)。沉積,即將導(dǎo)電、隔離或半導(dǎo)體材料的薄膜精確沉積在晶圓上,為后續(xù)的工藝奠定堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù),以其高效、穩(wěn)定的特點(diǎn),在半導(dǎo)體制造中發(fā)揮著重要作用。

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然而,CVD工藝在產(chǎn)生目標(biāo)產(chǎn)物的同時(shí),也會釋放出廢氣,這些廢氣成分復(fù)雜,含量高,且具有較強(qiáng)的毒性和腐蝕性。例如HCl、ClF3、HF以及自燃性氣體SiH4等化合物氣體,不僅危害生產(chǎn)環(huán)境,更對操作人員的身體健康構(gòu)成威脅。


為了應(yīng)對這一挑戰(zhàn),天得一公司憑借其深厚的技術(shù)積累和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),推出了高效、可靠的廢氣治理方案。通過采用不同型號的Local Scrubber+復(fù)合式組合工藝處理,我們能夠有效去除廢氣中的有害物質(zhì),使其達(dá)到可排放的尾氣處理標(biāo)準(zhǔn)。這不僅保護(hù)了生產(chǎn)環(huán)境,也為企業(yè)的可持續(xù)發(fā)展提供了有力保障。


選擇天得一,就是選擇安全、高效與可靠的廢氣治理方案。我們致力于為客戶提供最優(yōu)質(zhì)的服務(wù),共同推動(dòng)泛半導(dǎo)體行業(yè)的綠色、健康發(fā)展。